在同一設(shè)備中可靈活使用遠(yuǎn)程等離子體與熱ALD

集群式配置保證始終于真空下傳送襯底

盒式對盒式操作可提高產(chǎn)能以適于量產(chǎn)

對材料和氣體/液體源的選擇具有更大的靈活性

等離子體ALD可進行低溫工藝

使用遠(yuǎn)程等離子體以確保低損傷

通過配方驅(qū)動的軟件界面實現(xiàn)可控的和可重復(fù)的工藝

可處理高達(dá)200mm的晶圓

牛津儀器有大量的工藝儲備，并且還在不斷開發(fā)新的工藝。我們?yōu)樗械腁LD設(shè)備提供延續(xù)不斷的工藝支持，我們還將為您提供關(guān)于開發(fā)新材料的建議，同時繼續(xù)與您共享包括新工藝配方在內(nèi)的新的ALD工藝進展。

氣體/液體源前驅(qū)體模式上 - 一體化手套箱 —— 實時轉(zhuǎn)換

一體化端口 - 允許添加實時橢偏儀測量工具

集群式配置 - 始終于真空下傳送襯底

盒式對盒式操作 - 可提高產(chǎn)能以適于量產(chǎn)

機器手臂與片盒式 - 可處理100mm，150mm或200mm晶圓（無需額外設(shè)備進行晶圓交換）

所有系統(tǒng)都可以放置于超凈間內(nèi)或嵌入墻體 - 易于放置

自動化的200mm晶圓真空傳送 - 工藝靈活性