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PEALD 系統(tǒng)

簡要描述:SENTECH True Remote CCP 源可在低溫下對敏感基材和層進行均勻和保形涂層。在樣品表面提供高通量的反應性氣體種類,而沒有紫外線輻射或離子轟擊。SENTECH 原子層沉積系統(tǒng)可實現熱和等離子體增強操作。我們的原子層沉積系統(tǒng)可以配置為氧化物、氮化物、二維材料沉積。3D結構可以均勻和保形涂層。憑借 ALD、PECVD 和 ICPECVD,SENTECH 提供等離子體沉積技術,用于沉積

  • 產品型號:SI PEALD
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2024-08-12
  • 訪  問  量: 271

詳細介紹

主要功能與優(yōu)勢

用于敏感基材的PEALD

SENTECH SI PEALD系統(tǒng)具有真正的遠程等離子體源,可在低溫<100°C)下對敏感基材和層進行均勻和保形涂層的涂層。 在樣品表面提供高通量的反應性氣體種類,而沒有紫外線輻射或離子轟擊。

原子層沉積 (ALD) 用于精確、保形和均勻的沉積

原子層沉積技術的特點是能夠沉積保形和均勻的薄膜,并在原子水平上精確控制厚度,并繼續(xù)在半導體器件中發(fā)揮越來越大的作用,例如高介電原理材料的沉積。原子層沉積的一些主要應用包括傳感器、光電子學和 2D 材料。

用于工藝開發(fā)和優(yōu)化的原位診斷

AL 實時監(jiān)測器的原位診斷可實現單個 ALD 周期的超高分辨率。其優(yōu)點是確認原子層沉積(ALD)制度,縮短處理時間,并降低總擁有成本。光譜橢圓偏振儀也作為原位診斷提供,為我們的原子層沉積系統(tǒng)具有特定的優(yōu)勢。

反應器清潔簡單

定期清潔反應器對于穩(wěn)定和可重復的原子層沉積處理至關重要。在用于清潔我們的原子層沉積系統(tǒng)的提升裝置的幫助下,可以很容易地打開反應器室。

集群集成

原子層沉積系統(tǒng)可作為SENTECH集群工具的模塊使用。我們的原子層沉積系統(tǒng)可以與SENTECH PECVD和蝕刻系統(tǒng)結合使用,用于工業(yè)應用。集群工具可選地具有盒到盒加載功能。

手套箱系統(tǒng)集成

SENTECH ALD系統(tǒng)與不同供應商的手套箱兼容。

靈活性和模塊化

SENTECH 原子層沉積系統(tǒng)允許將不同的熱和/或等離子體增強原子層沉積膜組合成多層結構。熱和等離子體增強原子層沉積 (PEALD) 支持在一個具有最佳快門的反應器中。

SENTECH使用AL實時監(jiān)測儀以及寬范圍光譜橢圓偏振儀,對逐層薄膜生長進行的、超快速的原位監(jiān)測。

SENTECH 原子層沉積系統(tǒng)可實現熱和等離子體增強操作。我們的原子層沉積系統(tǒng)可以配置為氧化物、氮化物、二維材料沉積。3D結構可以均勻和保形涂層。憑借 ALD、PECVD 和 ICPECVD,SENTECH 提供等離子體沉積技術,用于沉積納米級至幾微米的薄膜。



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