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高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)

簡(jiǎn)要描述:高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)可以在粉末顆粒狀樣品表面鍍制金屬膜、磁性膜、絕緣膜等,采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)??蓮V泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研院所的粉末樣品表面鍍制薄膜材料的科研項(xiàng)目。

  • 產(chǎn)品型號(hào):PC450
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
  • 更新時(shí)間:2024-09-05
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量: 267

詳細(xì)介紹

1.產(chǎn)品概述:

高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)可以在粉末顆粒狀樣品表面鍍制金屬膜、磁性膜、絕緣膜等,采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。

2.設(shè)備用途:

可廣泛應(yīng)用于大院校、科研院所的粉末樣品表面鍍制薄膜材料的科研項(xiàng)目。

3.真空室結(jié)構(gòu):

圓筒形側(cè)開(kāi)門(mén),通常采用不銹鋼材質(zhì)制造,具備良好的密封性能

真空室尺寸:Ф450x550mm

限真空度:≤8.0E-5Pa

沉積源:永磁靶2套,φ3英寸

樣品尺寸,溫度:小型粉末顆粒狀樣品

占地面積(長(zhǎng)x寬x高):約1米x1.8米x2米

電控描述:全自動(dòng)設(shè)備電控系統(tǒng)和控制系統(tǒng):采用計(jì)算機(jī)控制,具有液晶顯示屏、鼠標(biāo)鍵盤(pán)操作界面,支持自動(dòng)控制和手動(dòng)控制兩種方式,操作簡(jiǎn)便,并可實(shí)現(xiàn)真空系統(tǒng)及工藝過(guò)程的全自動(dòng)化操作。






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