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當前位置:首頁  >  產(chǎn)品中心  >  半導體前道工藝設備  >  1 光刻設備  >  KS-FT200/300 前道8/12寸涂膠顯影機

涂膠顯影機

簡要描述:KS-FT200/300系列堆疊式高產(chǎn)能前道涂膠顯影機,為我司自主研發(fā)的突破晶圓前道28nm工藝節(jié)點及以上工藝制程,適用于ArF、KrF、I-Line、PI、BARC,SOC,SOD,SOG等多種材料涂覆顯影工藝的機臺。支持與光刻機聯(lián)機作業(yè)。該系列機臺通過各種行業(yè)認證,占地面積小、可靠性高、易于維護,滿足各種功能芯片制程需求。

  • 產(chǎn)品型號:KS-FT200/300 前道8/12寸
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時間:2024-09-04
  • 訪  問  量: 431

詳細介紹

1.產(chǎn)品概述:
KS-FT200/300系列堆疊式高產(chǎn)能道涂膠顯影機,為我司自主研發(fā)的突破晶圓道28nm工藝節(jié)點及以上工藝制程,適用于ArF、KrF、I-Line、PI、BARC,SOC,SOD,SOG等多種材料涂覆顯影工藝的機臺。支持與光刻機聯(lián)機作業(yè)。該系列機臺通過各種行業(yè)認證,占地面積小、可靠性高、易于維護,滿足各種功能芯片制程需求。

2.產(chǎn)品優(yōu)勢:

1. 堆疊式高產(chǎn)能架構(gòu),占地面積小

2. 可與光刻機聯(lián)機,滿足工廠自動化需求

3. 配備多段回吸的多腔體共用供膠系統(tǒng),有效節(jié)省光刻膠的用量

4. 選配高精度熱板、WEE、AOI等單元部件,滿足更高標準工藝需求

5. 核心單元模塊化設計,組合方式靈活多變,大限度客制化

3.應用域:

● 邏輯電路

● CMOS射頻電路

● 功率器件

● MEMS系統(tǒng)芯片

● 閃存內(nèi)存                                    

● CIS

● 驅(qū)動芯片

● OLED等          





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