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MBE分子束外延系統(tǒng)

簡(jiǎn)要描述:RIBERMBE分子束外延系統(tǒng)Compact 21 已成為有史以來(lái)最成功的商用 3 英寸 MBE 系統(tǒng)。憑借核心 Compact 21 DNA 在所有配置(III-V、II-VI、Gp IV、氧化物、金屬、GSMBE)中都很明顯,該多功能系統(tǒng)在從基礎(chǔ)研究到設(shè)備開(kāi)發(fā)和優(yōu)化的每個(gè)研究領(lǐng)域都得到了完善的服務(wù)。它最多可容納 12 個(gè)源端口,并且與電子槍兼容。這款整潔而強(qiáng)大的反應(yīng)器可提供手動(dòng)或全自動(dòng)

  • 產(chǎn)品型號(hào):Compact 21
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
  • 更新時(shí)間:2024-09-05
  • 訪  問(wèn)  量: 314

詳細(xì)介紹

1 產(chǎn)品概述:

   Riber分子束外延(MBE)系統(tǒng)是一款在半導(dǎo)體及光電子領(lǐng)域廣泛應(yīng)用的先進(jìn)設(shè)備,以其高精度、高純度和低溫生長(zhǎng)的特點(diǎn)而著稱(chēng)。該系統(tǒng)能夠在超高真空環(huán)境下,通過(guò)精確控制分子束的流量和速度,實(shí)現(xiàn)原子層級(jí)的材料沉積,從而生長(zhǎng)出具有優(yōu)異性能的薄膜材料。Riber公司其MBE系統(tǒng)涵蓋了多種型號(hào),如MBE 6000-Multi4英寸中試生產(chǎn)系統(tǒng)等,以滿(mǎn)足不同規(guī)模和需求的生產(chǎn)場(chǎng)景。

2 設(shè)備用途:

  半導(dǎo)體制造:Riber MBE系統(tǒng)可用于生長(zhǎng)高質(zhì)量的半導(dǎo)體材料,如GaAs、InPGaN等,這些材料是制造晶體管、二極管、激光器等微電子器件的關(guān)鍵。通過(guò)MBE技術(shù),可以精確控制材料的組分、厚度和界面結(jié)構(gòu),從而優(yōu)化器件的性能。

  光電子器件:在光電子領(lǐng)域,Riber MBE系統(tǒng)可用于制造太陽(yáng)能電池、LED、光電探測(cè)器等器件。利用MBE技術(shù)生長(zhǎng)的量子點(diǎn)等結(jié)構(gòu),可以顯著提升這些器件的光電轉(zhuǎn)換效率和性能穩(wěn)定性。

  量子點(diǎn)研究:MBE系統(tǒng)還廣泛應(yīng)用于量子點(diǎn)的研究和生產(chǎn)中。量子點(diǎn)是一種具有光電特性的納米材料,通過(guò)MBE技術(shù)可以精確控制其尺寸、形狀和組分,從而制備出性能優(yōu)異的量子點(diǎn)材料。

3 設(shè)備特點(diǎn)

  高精度沉積:Riber MBE系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)原子層級(jí)的材料沉積控制,確保薄膜的高質(zhì)量和均勻性。這種高精度沉積能力使得MBE系統(tǒng)在制造高性能微電子和光電子器件方面具有優(yōu)勢(shì)。

  高真空環(huán)境:系統(tǒng)配備先進(jìn)的真空系統(tǒng),提供超高真空環(huán)境,有效減少雜質(zhì)和污染,保證晶體沉積的純度和質(zhì)量。

  低溫生長(zhǎng):MBE技術(shù)采用低溫生長(zhǎng)方式,有效避免界面原子的互擴(kuò)散和缺陷的形成,從而生長(zhǎng)出高質(zhì)量的薄膜材料。

    多源端口設(shè)計(jì):部分型號(hào)如4英寸中試生產(chǎn)系統(tǒng)可配備多個(gè)源端口,以滿(mǎn)足不同材料的沉積需求,有助于生長(zhǎng)復(fù)雜的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)。


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