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離子束刻蝕機

簡要描述:EIS-200ERP是由ELIONIX研發(fā)的離子束刻蝕機,緊湊和高性能,使用 ECR 離子束可以進行納米蝕刻和沉積,制品特微。

  • 產(chǎn)品型號:EIS-200ERP
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時間:2024-09-05
  • 訪  問  量: 271

詳細介紹

1 產(chǎn)品概述:

   離子束刻蝕設(shè)備是一種高精度的材料加工設(shè)備,它利用經(jīng)過電場加速的高能離子束對樣品表面進行物理轟擊,從而實現(xiàn)材料的精細刻蝕。這種設(shè)備廣泛應用于物理學、工程與技術(shù)科學基礎(chǔ)學科、測繪科學技術(shù)、航空、航天科學技術(shù)等多個領(lǐng)域,成為現(xiàn)代微納米加工技術(shù)中的重要工具。

2 設(shè)備用途:

  1. 材料加工:離子束刻蝕設(shè)備可以對多種材料進行精細加工,包括硅、石英、半導體、金屬、非金屬硬質(zhì)薄膜等。通過控制離子束的能量、束流密度和刻蝕時間等參數(shù),可以精確控制刻蝕深度和形貌,實現(xiàn)微米甚至納米量級的加工精度。

  2. 微結(jié)構(gòu)制作:該設(shè)備具有制作微結(jié)構(gòu)圖形的能力,如光柵、微透鏡陣列等。在光學、電子學等領(lǐng)域中,這些微結(jié)構(gòu)對于提高器件性能具有關(guān)鍵作用。

  3. 樣品表面處理:離子束刻蝕還可以用于清洗材料表面有機物、氧化物等污染物,提升材料表面的親水性、粘接力和附著力。這對于提高樣品的質(zhì)量和分析精度具有重要意義。

3 設(shè)備特點

  高精度:離子束刻蝕設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)高精度的材料加工和微結(jié)構(gòu)制作。通過精確控制離子束的參數(shù),可以實現(xiàn)微米甚至納米量級的加工精度。

  多材料適應性:該設(shè)備可以處理多種材料,包括硅、石英、半導體、金屬、非金屬硬質(zhì)薄膜等。這種廣泛的材料適應性使得離子束刻蝕設(shè)備在多個領(lǐng)域中得到廣泛應用。

  高靈活性:離子束刻蝕設(shè)備通常配備有先進的控制系統(tǒng)和樣品臺,可以實現(xiàn)多種加工模式和工藝參數(shù)的靈活調(diào)整。這為用戶提供了更多的選擇和便利。

  高穩(wěn)定性:設(shè)備在長時間運行過程中能夠保持較高的穩(wěn)定性和可靠性。這有助于確保加工質(zhì)量和生產(chǎn)效率的穩(wěn)定。
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技術(shù)參數(shù)和特點:

離子槍

ECR型離子槍

電離氣體

Ar、Xe等、惰性離子種類的氣體 

N2O2、C3F8等、活性離子種類的氣體

加速電壓

100 ~ 3000 V 連續(xù)可變

離子流密度

Ar: 1.5 mA/cm2 以上 (2kV加速時)

O2: 2.0 mA/cm2 以上 (2kV加速時)

離子束有效直徑

Φ 20 mm (FWHM 35 mm)

離子流穩(wěn)定性

±5 / 2 H

大試樣尺寸

Φ 4英寸


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