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CIF烤膠機(jī)采用智能程序化控溫技術(shù)，控溫精準(zhǔn)均勻，加熱快速高效，維修簡單方便，控溫范圍在室溫－360℃之間，控溫精度達(dá)到0.1℃。適用于各種控溫精度高，加熱均勻性要求高的實驗室。

CIF勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結(jié)構(gòu)緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué)，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO 導(dǎo)電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

CIF掃描電鏡等離子清洗機(jī)采用遠(yuǎn)程等離子清洗源設(shè)計，清洗快速、高效、低轟擊損傷，主要用于SEM或FIB等電鏡腔體內(nèi)碳?xì)浠衔锏那逑础?/p>

CIF等離子去膠機(jī) 采用電感耦合各向同性（各個方向）等離子激發(fā)方式，適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進(jìn)行等離子體去膠。其外觀美學(xué)設(shè)計，結(jié)構(gòu)緊湊，漂亮大氣，優(yōu)化的腔體結(jié)構(gòu)及合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計，使得處理樣品量更大，適用范圍更廣，性能更穩(wěn)定，操作更簡便，性價比更高，使用成本更低，實用性更強(qiáng)，更容易維護(hù)。

CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機(jī)是為研發(fā)型客戶和工業(yè)級客戶而設(shè)計的等離子體表面處理設(shè)備，配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數(shù)生產(chǎn)場景。適用于等離子清洗，活化以及刻蝕等多種應(yīng)用，設(shè)備可在嚴(yán)苛環(huán)境下穩(wěn)定運(yùn)行，產(chǎn)品性能穩(wěn)定，樣品處理重復(fù)性、一致性好。

1.是高潔凈度的沖洗旋干設(shè)備。主要系應(yīng)用于硅晶圓、掩模板、太陽能電池等材料的高潔凈度沖洗旋干。設(shè)備具有單工作室、雙工作室兩種結(jié)構(gòu)。 2.產(chǎn)品類型：有立式單腔，雙腔晶圓甩干機(jī)(2-12寸)，水平多工位甩干機(jī)(2-12寸) 3.單次甩干數(shù)量1-25塊 4.作業(yè)程序：沖洗、烘干的步驟順序、時間、 轉(zhuǎn)速等可分段編輯，（可設(shè) recipe 為 10 個）