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CIF 實(shí)驗(yàn)室型等離子清洗機(jī)

簡(jiǎn)要描述:CIF 實(shí)驗(yàn)室型等離子清洗機(jī)在材料學(xué),光學(xué),電子學(xué),醫(yī)藥學(xué),環(huán)境學(xué)、生物學(xué)等科研領(lǐng)域,主要用于材料表面進(jìn)行清洗、活化、改性等目的。
CIF推出的新一代等離子體清洗設(shè)備,合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),優(yōu)化的腔體尺寸,使得處理樣品更大,適用范圍更廣,性能更穩(wěn)定,操作更簡(jiǎn)便,性價(jià)比更高,使用成本更低,實(shí)用性更強(qiáng),更容易維護(hù)。

  • 產(chǎn)品型號(hào):CPC-F/Fplus
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間:2024-09-02
  • 訪  問(wèn)  量: 944

詳細(xì)介紹

一、CIF 實(shí)驗(yàn)室型等離子清洗機(jī) 產(chǎn)品介紹

等離子清洗設(shè)備在材料學(xué),光學(xué),電子學(xué),醫(yī)藥學(xué),環(huán)境學(xué)、生物學(xué)等科研領(lǐng)域,主要用于材料表面進(jìn)行清洗、活化、改性等目的。

CIF推出的新一代等離子體清洗設(shè)備,合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),優(yōu)化的腔體尺寸,使得處理樣品更大,適用范圍更廣,性能更穩(wěn)定,操作更簡(jiǎn)便,性價(jià)比更高,使用成本更低,實(shí)用性更強(qiáng),更容易維護(hù)。        

二、CIF 實(shí)驗(yàn)室型等離子清洗機(jī) 產(chǎn)品特點(diǎn)

u 7寸彩色觸摸屏互動(dòng)操作界面,圖形化用戶操作界面顯示,自動(dòng)監(jiān)測(cè)工藝參數(shù)狀態(tài),20個(gè)配方程序,可存儲(chǔ)、輸出、追溯工藝數(shù)據(jù),機(jī)器運(yùn)行、停止提示。

u PLC工控機(jī)控制整個(gè)清洗過(guò)程,手動(dòng)、自動(dòng)兩種工作模式。

u 采用美國(guó)德威爾(Dwyer)氣體浮子流量計(jì),可輸入氧氣、氬氣、氮?dú)?、氫氣或混合氣等氣體,氣體分配均勻,經(jīng)濟(jì)實(shí)用。

u HEPA高效過(guò)濾,氣體返填吹掃,防止二次污染。

u 316不銹鋼、石英真空倉(cāng)可選擇,全真空管路系統(tǒng)采用316不銹鋼材質(zhì),耐腐蝕無(wú)污染。

u 采用60度傾角操作面板設(shè)計(jì),符合人體功能學(xué),操作方便,界面友好。

u 上控制下艙體結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),結(jié)構(gòu)緊湊,占地空間小。

u 內(nèi)凹式前面板設(shè)計(jì),有效保護(hù)流量計(jì)和艙門運(yùn)輸過(guò)程中不易損壞。

u 處理快速高效均勻,無(wú)污染,工藝重復(fù)性好。

u 樣品處理溫度低,無(wú)熱損傷和熱氧化。

u 安全保護(hù),倉(cāng)門打開,自動(dòng)關(guān)閉電源。

三、技術(shù)參數(shù)

型號(hào)

CPC-F

CPC-Fplus

ICP3

ICP3 plus

艙體尺寸

D200xΦ155mm

D200xΦ155mm

H120xΦ270mm  

H120xΦ270mm

艙體容積

3.8L

3.8L

3.8L

3.8L

射頻電源

40KHz

13.56MHz

40KHz

13.56MHz

匹配器

自動(dòng)匹配

自動(dòng)匹配

自動(dòng)匹配

自動(dòng)匹配

激發(fā)方式

電容式

電容式

電感耦合

電感耦合

射頻功率

10-300W可調(diào)

10-150W可調(diào)

10-300W可調(diào)

10-150W可調(diào)

氣體控制

雙浮子流量計(jì)

有效處理尺寸

L200xW155mm

產(chǎn)品尺寸

L425xW420xH465mm

包裝尺寸

L560xW545xH730mm

時(shí)間設(shè)定

1-99分59秒

真空泵

抽速4-8m3/h

氣體穩(wěn)定時(shí)間

1分鐘

真空度

100pa以內(nèi)

AC220V 50-60Hz




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