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當(dāng)前位置:首頁(yè)  >  產(chǎn)品中心  >  半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備  >  1 光刻設(shè)備  >  ULTRA激光掩模光刻機(jī)

激光掩模光刻機(jī)

簡(jiǎn)要描述:ULTRA激光掩模光刻機(jī) 是專門用于成熟半導(dǎo)體光掩模的合格激光掩模機(jī)。半導(dǎo)體光掩模用于制造電子設(shè)備,包括微控制器、電源管理、LED、物聯(lián)網(wǎng) (IoT) 和 MEMS。

ULTRA 是一種經(jīng)濟(jì)型光刻機(jī)解決方案,具有高吞吐量、精度和結(jié)構(gòu)均勻性以及極其精確的對(duì)準(zhǔn)所需的所有特性和功能。標(biāo)準(zhǔn)配置包括全自動(dòng)掩模處理、Zerodur® 平臺(tái)、低失真光學(xué)元件和高精度位置控制等功能。

  • 產(chǎn)品型號(hào):ULTRA
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間:2024-09-04
  • 訪  問(wèn)  量: 250

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品概述:

ULTRA半導(dǎo)體光掩模光刻機(jī)是門用于成熟半導(dǎo)體光掩模的合格激光掩模機(jī)。半導(dǎo)體光掩模用于制造電子設(shè)備,包括微控制器、電源管理、LED、物聯(lián)網(wǎng) (IoT) 和 MEMS。

操作


用戶界面(軟件)

 

半兼容 GUI

大寫入?yún)^(qū)域

228 x 228 mm2 (可根據(jù)要求提供其他尺寸)

基板尺寸

4 英寸、5 英寸、6 英寸、7 英寸和 9 英寸口罩(可根據(jù)要求提供更大的和其他基材)



 

系統(tǒng)特點(diǎn)


光學(xué)

0.9 NA物鏡
低失真紫外光學(xué)元件
自動(dòng)校準(zhǔn)程序

激光

355nm波長(zhǎng)的高功率二管泵浦固體激光器

對(duì)焦系統(tǒng)

實(shí)時(shí)光學(xué)自動(dòng)對(duì)焦

對(duì)準(zhǔn)

攝像系統(tǒng)
失真補(bǔ)償
全局和逐場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)
邊緣檢測(cè)器

數(shù)據(jù)路徑

 

實(shí)時(shí)壓縮
可擴(kuò)展的硬件概念
輸入格式:所有標(biāo)準(zhǔn)格式,例如 GDSII 和 Jobdeck

空間光調(diào)制器

 

頻率 350 kHz
數(shù)據(jù)速率 2.4 GB/s

自動(dòng)化

 

全自動(dòng)口罩處理,帶兩個(gè)大 9 英寸的輸送站;可選的 SECS/GEM 協(xié)議



 

系統(tǒng)尺寸

 

系統(tǒng) / 電子機(jī)架

 

寬度 [mm]

2995 / 800

 

深度 [mm]

1652 / 650

 

高度 [mm]

2102 / 1800

 

重量 [kg]

3400 / 180



 

安裝要求


電氣

400 VAC ± 5%,50/60 Hz,16A,3 相

壓縮空氣

7 - 10 bar (不含油或其他殘留物)

 




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