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簡(jiǎn)要描述：ULTRA激光掩模光刻機(jī) 是專門用于成熟半導(dǎo)體光掩模的合格激光掩模機(jī)。半導(dǎo)體光掩模用于制造電子設(shè)備，包括微控制器、電源管理、LED、物聯(lián)網(wǎng) （IoT） 和 MEMS。ULTRA 是一種經(jīng)濟(jì)型光刻機(jī)解決方案，具有高吞吐量、精度和結(jié)構(gòu)均勻性以及極其精確的對(duì)準(zhǔn)所需的所有特性和功能。標(biāo)準(zhǔn)配置包括全自動(dòng)掩模處理、Zerodur® 平臺(tái)、低失真光學(xué)元件和高精度位置控制等功能。
產(chǎn)品型號(hào)：ULTRA廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時(shí)間：2024-09-04訪 問(wèn) 量： 250產(chǎn)品分類
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產(chǎn)品概述：
ULTRA半導(dǎo)體光掩模光刻機(jī)是門用于成熟半導(dǎo)體光掩模的合格激光掩模機(jī)。半導(dǎo)體光掩模用于制造電子設(shè)備，包括微控制器、電源管理、LED、物聯(lián)網(wǎng) （IoT） 和 MEMS。
操作 | |
用戶界面（軟件） |
半兼容 GUI |
大寫入?yún)^(qū)域 | 228 x 228 mm2 （可根據(jù)要求提供其他尺寸） |
基板尺寸 | 4 英寸、5 英寸、6 英寸、7 英寸和 9 英寸口罩（可根據(jù)要求提供更大的和其他基材） |
系統(tǒng)特點(diǎn) | |
光學(xué) | 0.9 NA物鏡 |
激光 | 355nm波長(zhǎng)的高功率二管泵浦固體激光器 |
對(duì)焦系統(tǒng) | 實(shí)時(shí)光學(xué)自動(dòng)對(duì)焦 |
對(duì)準(zhǔn) | 攝像系統(tǒng) |
數(shù)據(jù)路徑 |
實(shí)時(shí)壓縮 |
空間光調(diào)制器 |
頻率 350 kHz |
自動(dòng)化 |
全自動(dòng)口罩處理，帶兩個(gè)大 9 英寸的輸送站;可選的 SECS/GEM 協(xié)議 |
系統(tǒng)尺寸 |
系統(tǒng) / 電子機(jī)架 |
寬度 [mm] | 2995 / 800 |
深度 [mm] | 1652 / 650 |
高度 [mm] | 2102 / 1800 |
重量 [kg] | 3400 / 180 |
安裝要求 | |
電氣 | 400 VAC ± 5%，50/60 Hz，16A，3 相 |
壓縮空氣 | 7 - 10 bar （不含油或其他殘留物） |
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