自慰一区,国产精品XXX在线观看www,久久久久久亚洲精品,久久免费精品视频

歡迎來到深圳市矢量科學儀器有限公司網站!
咨詢熱線

當前位置:首頁  >  產品中心  >  半導體前道工藝設備  >  5 刻蝕設備  >  Herent® Chimera® M12英寸金屬刻蝕設備

12英寸金屬刻蝕設備

簡要描述:Herent® Chimera® M 金屬刻蝕設備,為針對12英寸IC產業(yè)0.18微米以下后道高密度鋁導線互連工藝所開發(fā)的專用產品, 同時也可應用于鋁墊(Al pad)刻蝕。該設備承襲了 Chimera® A 的先進設計理念,具有出色的均勻性調控手段, 可以為客戶提供高性價比的解決方案。

  • 產品型號:Herent® Chimera® M
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2024-09-04
  • 訪  問  量: 325

詳細介紹

1. 系統(tǒng)特性

Herent® Chimera® M 金屬刻蝕設備是面向12英寸集成電路制造的量產型設備

設備由電感耦合等離子體刻蝕腔(ICP etch chamber)、去膠腔(strip chamber)、傳輸模塊(transfer module)構成

適用于0.18微米及其他技術代邏輯應用中的高密度鋁導線工藝,以及鋁墊刻蝕

2. 詳細介紹

Herent® Chimera® M 金屬刻蝕設備,為針對12英寸IC產業(yè)0.18微米以下后道高密度鋁導線互連工藝所開發(fā)的用產品, 同時也可應用于鋁墊(Al pad)刻蝕。該設備承襲了 Chimera® A 的先進設計理念,具有出色的均勻性調控手段, 可以為客戶提供高性價比的解決方案

產品咨詢

留言框

  • 產品:

  • 您的單位:

  • 您的姓名:

  • 聯(lián)系電話:

  • 常用郵箱:

  • 省份:

  • 詳細地址:

  • 補充說明:

  • 驗證碼:

    請輸入計算結果(填寫阿拉伯數(shù)字),如:三加四=7