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EvoVac 物理氣相沉積平臺(tái)

簡(jiǎn)要描述:EvoVac PVD 平臺(tái)可以做任何您需要的事情。它有一個(gè)大腔室,可以配備您需要的任何源或工藝增強(qiáng)。EvoVac 物理氣相沉積平臺(tái)是我們具有可定制性的單腔室平臺(tái),因此它可以配備用于特定應(yīng)用的工具,也可以成為適合您實(shí)驗(yàn)室中各種用戶(hù)的多功能多源沉積主力。

  • 產(chǎn)品型號(hào):埃沃維克
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
  • 更新時(shí)間:2024-09-05
  • 訪  問(wèn)  量: 262

詳細(xì)介紹

1 產(chǎn)品概述:

  物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,簡(jiǎn)稱(chēng)PVD)平臺(tái)是一種利用物理方式將材料從源頭蒸發(fā)或?yàn)R射到基底表面進(jìn)行薄膜制備的先進(jìn)設(shè)備。該技術(shù)通過(guò)高速粒子的撞擊,將材料從固態(tài)或液態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài),并沉積在基底上形成薄膜。PVD平臺(tái)廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)、電子、航空航天、生物醫(yī)學(xué)等多個(gè)領(lǐng)域,是材料科學(xué)和現(xiàn)代工業(yè)中關(guān)鍵工藝設(shè)備。

2 設(shè)備用途:

  半導(dǎo)體行業(yè):在半導(dǎo)體材料表面沉積一層或多層薄膜,以制備晶體管、集成電路等半導(dǎo)體器件,提高器件性能和穩(wěn)定性。

  光學(xué)領(lǐng)域:在光學(xué)元件表面沉積光學(xué)薄膜,改變其光學(xué)性能,如反射率、透過(guò)率和折射率等,滿(mǎn)足特定光學(xué)需求。

  航空航天:在航空航天部件表面沉積耐磨、耐腐蝕、耐高溫的薄膜,提高部件的使用壽命和安全性。

  生物醫(yī)學(xué):在醫(yī)療器械表面沉積生物相容性好的薄膜,提高器械的生物相容性和耐腐蝕性。

  數(shù)據(jù)存儲(chǔ):在硬盤(pán)、光盤(pán)等數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)表面沉積薄膜,提高存儲(chǔ)密度和讀寫(xiě)速度。

3 設(shè)備特點(diǎn)

  1.    高精度與高質(zhì)量:PVD平臺(tái)能夠制備出高精度、高質(zhì)量的薄膜,滿(mǎn)足各種精密加工需求。      

  2.    多功能性:支持多種鍍膜方式,如蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、脈沖激光沉積等,滿(mǎn)足不同材料的鍍膜需求。

  3.    高靈活性:設(shè)備設(shè)計(jì)靈活,可根據(jù)具體需求進(jìn)行定制,適應(yīng)不同尺寸和形狀的基底。

  4.    高真空環(huán)境:設(shè)備在高度真空環(huán)境下工作,減少雜質(zhì)污染,保證薄膜的純凈度和質(zhì)量。

4 設(shè)備參數(shù)

   擁有較大的腔室,基片臺(tái)尺寸為 500mm×700mm,可容納多達(dá) 14 個(gè)源,能適應(yīng)多種物理氣相沉積工藝,也可配置以達(dá)到超高真空(UHV)環(huán)境。沉積源選項(xiàng)豐富:

   濺射方面,提供射頻(RF)、直流(DC)、脈沖直流(Pulsed DC)、高功率脈沖磁控濺射(HIPIMS)和反應(yīng)濺射等模式,并有圓形、線(xiàn)性和圓柱形陰可供選擇。


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