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簡要描述:FZ-14M(G)區(qū)熔晶體生長系統(tǒng)為制備單晶硅晶體樣品而設(shè)計開發(fā),該系統(tǒng)用于工業(yè)多晶硅生產(chǎn)中的材料分析。生產(chǎn)過程中的小型多晶體樣品在氬氣環(huán)境中被感應(yīng)熔化,并在籽晶上結(jié)晶,形成單晶,然后進行光譜分析,以檢測和記錄所生產(chǎn)的多晶硅質(zhì)量。該系統(tǒng)采用無接觸熔化工藝,通過使用渦輪分子泵和超純氬氣作為工藝氣體,產(chǎn)生高極限真空環(huán)境,有效地防止了工藝過程中的污染。
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FZ-14M(G) 區(qū)熔晶體生長系統(tǒng)可在線圈下放置顆粒硅料,使用籽晶將熔融的顆粒硅拉出用于材料分析的小單晶棒, 在拉制過程中顆粒硅容器和籽晶旋轉(zhuǎn)方向相反。此外,上主軸可以在X或Y方向移動。
產(chǎn)品數(shù)據(jù)概覽:
材料:硅
晶體
晶體拉動長度 350 mm
晶體直徑: 最長可達 25 mm
最后真空度: 2.5 x 10-5 mbar
最大過壓: 2 bar(g)
發(fā)電機
輸出電壓: 15 kW
頻率: 2.4 MHz (FZ-14M)
上軸
進料速度: 最高 30 mm/min
上部旋轉(zhuǎn): 最高 30 rpm
下軸
拉動速度: 最高 30 mm/min
下部旋轉(zhuǎn): 最高 30 rpm
尺寸規(guī)格
高度: 3,000 mm
寬度: 1,020 mm
深度 1,640 mm
面積(總): 1,800 mm x 4,000 mm
重量(總): 約2,500 kg
區(qū)熔(FZ)技術(shù)作為提純方法為生產(chǎn)高電阻率的超純硅單晶提供了技術(shù)可行性,該技術(shù)可應(yīng)用于高性能電子和半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域。其另一優(yōu)點是可以從氣相中連續(xù)摻入,這使得在整個晶體的電阻率沿長度方向保持一致。因此,幾乎可以在整個晶體上均勻地實現(xiàn)所需的電性能。由于電荷載流子的高壽命和極低的氧含量(無坩堝工藝),FZ晶體同樣也適用于光伏行業(yè)。
區(qū)熔(FZ)技術(shù)作為提純方法與CZ直拉工藝等競爭方法相比,FZ工藝的優(yōu)勢在于只有緊鄰感應(yīng)線圈的一小部分晶體需要被熔化,無需使用石英坩堝(每爐次耗用一個),可實現(xiàn)高拉速,因此降低了耗材成本的同時也降低了能源成本。此外,無論是從硅還是其他合適的材料中提取的晶體,可以通過多次處理,顯著地提高純度。
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